近日，A股光刻机板块表现活跃，波长光电、凯美特气、苏大维格、赛微电子、炬光科技、茂莱光学领涨，题材产业链企业整理：

波长光电（301421.SZ）

最新股价：88.12元

涨幅：20.01%

涨停时间：09:35

公司是国内精密光学元件主要供应商，在半导体领域已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头能力。其成功开发的光刻机平行光源系统已交付多套用于接近式掩膜芯片光刻工序，同时在激光检测方向产品已进入半导体光刻配套检测产业。

凯美特气（002549.SZ）

最新股价：18.05元

涨幅：9.99%

涨停时间：10:53

公司生产的光刻气产品通过ASML子公司Cymer公司审查，并被列入合格供应商名单。产品资质获得国际认可，凸显在半导体特种气体领域的技术实力。

苏大维格（300331.SZ）

最新股价：38.47元

涨幅：14.66%

作为国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，公司向上海微电子提供了半导体领域投影式光刻机用的定位光栅尺部件，在关键器件领域实现重要突破。

赛微电子（300456.SZ）

最新股价：25.22元

涨幅：8.38%

公司是全球领先的高端集成电路芯片晶圆制造厂商，一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务，该客户目前为公司MEMS业务前十大客户。

炬光科技（688167.SS）

最新股价：175.97元

涨幅：6.65%

作为国内高功率半导体激光产业先驱企业，公司为世界顶级企业提供光刻机用光场匀化器。产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中，并供应给全球高端光刻机生产商的核心设备。

茂莱光学（688502.SZ）

最新股价：433.26元

涨幅：6.60%

公司是精密光学综合解决方案提供商，为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的组件，这些是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。

风险提示：本文提及的行业信息与企业动态仅作梳理，不构成任何投资建议；企业经营及市场波动存在不确定性，请注意相关风险。